여러 캐비티에서 일관된 미러 품질

고정밀 미러 마감의 핵심 기술

Low-Wear Circuit(LW2)이 탑재된 NeuAR의 첨단 미러 방전가공 기술은 단 3개의 전극만으로 4개의 캐비티를 연속 가공할 수 있도록 하며, 날카로운 모서리, 명확하게 정의된 코너 및 균일한 표면 마감을 유지합니다.

기존 미러 방전가공은 전극 마모가 과도하게 발생하고 물결 모양 자국을 비롯한 표면 질감이 고르지 않을 수 있습니다. 이러한 문제를 해결하려면 추가 전극과 마무리 가공이 필요한 경우가 많습니다. LW2 회로는 전극 마모를 최소화하고 일관된 가공 품질을 유지하도록 지원하여 추가 전극 교체와 정밀 마무리 작업의 필요성을 줄여줍니다.

가공 사례 연구

자동 캐비티 깊이 보정
18시간 40분 동안 연속 가공과 전극 교환을 진행한 후에도 각 캐비티의 치수 편차를 3 µm 이내로 유지할 수 있습니다.간단한 명령으로 전극 마모를 고려하여 각 캐비티의 가공 깊이를 신속하게 보정할 수 있습니다.이는 필요한 공차 범위 내에서 캐비티 깊이를 일정하게 유지하여 여러 캐비티의 치수 정확도와 가공 일관성을 향상하는 데 도움이 됩니다.

4캐비티 미러 표면

가공 사례 연구: 3 µm 정밀도의 다중 캐비티 미러 마감
단 3개의 전극만 사용하여 4개의 캐비티를 가공하면서, 날카로운 모서리와 일관된 캐비티 치수를 갖춘 균일한 미러 마감을 구현합니다.

가공 데이터
가공물	STAVAX (HRC 52)
전극	구리 □ 23 x 23 mm
깊이	2.0 mm
거칠기	Ra 0.06 / VDI 0
언더사이즈	0.20 / 0.12 / 0.05 mm
사이클 타임	18시간 40분

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전체 카탈로그: CNC 정밀 다이 싱커 EDM

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